自動(dòng)On-Line（軸輪式）式AP等離子處理系統(tǒng)CRF-APO-500W-W

型號(hào)（Model）

CRF-APO-500W-W

電源（Power supply）

220V/AC,50/60Hz

功率（Power）

2set*1000W/25KHz(Option)

處理寬幅（Processing width）

50mm-500mm（Option）

有效處理高度（Processing height）

5-15mm

處理速度（Processing speed）

0-5m/min

傳動(dòng)方式（Drive mode）

防靜電絕緣滾輪

噴頭數(shù)量（Number）

2（Option）

工作氣體（Gas）

Compressed Air（0.4mpa）

產(chǎn)品特點(diǎn)：配置運(yùn)動(dòng)控制平臺(tái)，PLC+觸摸屏控制方式,，采用運(yùn)動(dòng)模組,，操作簡(jiǎn)便,；

可選配噴頭數(shù)量,，滿足客戶多元化需求,；

配置集塵系統(tǒng)，保證產(chǎn)品品質(zhì)和設(shè)備的整潔,、干凈,；

應(yīng)用范圍：主要應(yīng)用于電子行業(yè)的手機(jī)殼印刷、涂覆、點(diǎn)膠等前處理,，手機(jī)屏幕的表面處理；工業(yè)的航空航天電連接器表面清洗,；通用行業(yè)的絲網(wǎng)印刷,、轉(zhuǎn)移印刷前處理等。

等離子清洗設(shè)備可根據(jù)污染物的類型采用不同的清洗方法

等離子清洗是通過(guò)化學(xué)和物理作用從分子層(一般厚度為3~30nm)中去除污染物,，提高工件表面活性的技術(shù),。所去除的污染物可能是有機(jī)物，環(huán)氧樹脂,，光刻膠,，氧化物，微粒污染物等,。電漿處理可以根據(jù)污染物的類型采用不同的清洗方法,。

1、灰化表面有機(jī)層

污染物在真空和瞬時(shí)高溫下蒸發(fā),，被高能離子粉碎,，從真空中排出。

UV輻射破壞污染物,，等離子處理每秒只能穿透幾納米,，所以污染層不厚。指紋也適用,。

2,、氧化物去除

這一過(guò)程包括使用氫氣或氫氣和氬氣的混合物。有時(shí)也可以采用兩步法,。首先把表面氧化5分鐘,，然后用氫氣，氬氣的混合物去除氧化,。各種氣體也可同時(shí)進(jìn)行處理,。

3、焊接

一般情況下,，印刷電路板焊接前應(yīng)使用化學(xué)藥劑,。這些化學(xué)物質(zhì)必須在焊接后用等離子法去除，否則會(huì)導(dǎo)致腐蝕等問(wèn)題,。

等離子清洗設(shè)備的原理是：真空狀態(tài)下,，壓強(qiáng)減小，分子間的距離增大,，分子間的作用力減小,，利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)，將氧氣、氬,、氫等技術(shù)氣體沖洗成反應(yīng)活性高,、能量大的離子，與有機(jī)污染物和微粒體污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),，工作氣流和真空泵去除揮發(fā)性物質(zhì),，實(shí)現(xiàn)表面清潔活化。它是一種徹底的剝離清洗方法,，具有清洗后無(wú)廢液,、金屬、半導(dǎo)體,、氧化物和大多數(shù)聚合物材料處理良好,、整體、局部和復(fù)雜結(jié)構(gòu)清洗的優(yōu)點(diǎn),。

等離子清洗是通過(guò)化學(xué)或物理作用對(duì)工件表面進(jìn)行處理,，實(shí)現(xiàn)分子水平的污染物去除（一般厚度為3～30nm），從而提高工件表面活性,。被清除的污染物可能為有機(jī)物,、環(huán)氧樹脂、光刻膠,、氧化物,、微顆粒污染物等。對(duì)應(yīng)不同的污染物,，應(yīng)采用不同的清洗工藝,，在這種情況下，等離子處理可以產(chǎn)生以下效果：

污染物在真空和瞬時(shí)高溫下的部分蒸發(fā),，污染物被高能離子粉碎并被真空帶走,。

紫外輻射破壞污染物，由于等離子體處理每秒鐘只能穿透幾納米,，所以污染層不應(yīng)該太厚,。指紋也適用。

這種處理包括使用氫或氫和氬的混合物,。有時(shí)也采用兩步流程步是用氧氣氧化表面5分鐘,，第二步是用氫和氬的混合物除去氧化層。它也可以同時(shí)用幾種氣體處理,。

通常,，印刷電路板應(yīng)在焊接前用化學(xué)藥劑處理。焊接后,，這些化學(xué)物質(zhì)必須用等離子體法去除,，否則會(huì)引起腐蝕和其他問(wèn)題。

等離子清洗設(shè)備的原理是在真空狀態(tài)下，壓力越來(lái)越小,，分子間間距越來(lái)越大,，分子間力越來(lái)越小，利用射頻源產(chǎn)生的高壓交變電場(chǎng)將氧,、氬,、氫等工藝氣體震蕩成具有高反應(yīng)活性或高能量的離子，然后與有機(jī)污染物及微顆粒污染物反應(yīng)或碰撞形成揮發(fā)性物質(zhì),，然后由工作氣體流及真空泵將這些揮發(fā)性物質(zhì)清除出去，從而達(dá)到表面清潔活化的目的,。是清洗方法中徹底的剝離式清洗,，其優(yōu)勢(shì)在于清洗后無(wú)廢液，特點(diǎn)是對(duì)金屬,、半導(dǎo)體,、氧化物和大多數(shù)高分子材料等都能很好地處理，可實(shí)現(xiàn)整體和局部以及復(fù)雜結(jié)構(gòu)的清洗,。