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同軸光光源用一段時間后，發(fā)生圖像自動變亮現(xiàn)象

原因分析或解決辦法

影響圖片亮度因素有：

光源控制器；視覺程序調(diào)用相機參數(shù)變亮,；同軸光表面反光鏡和防塵片臟污；

解決辦法：

1.將光源控制器（模擬）旋鈕調(diào)節(jié)至*大,，過一段時間后仍然變亮，排除原因,；

2.查看視覺程序調(diào)用的參數(shù),，變亮前和變亮后一樣，排除原因,；

3.同軸光分光鏡或防塵片表面臟污引起,，變亮后，用無塵布擦去光源表面的臟污,，變暗,，確定原因。

同軸光為什么叫同軸光：

光源通過漫射板發(fā)散打到半透半反射分光片上,，該分光片將光反射到物體上,，再由物體反射到鏡頭中。由于物體反射后的光與相機處于同一個軸線上,，因此,，此種方式的光源被稱之為同軸光。

分光鏡：

分光片在表面上鍍了一層特殊的膜（多層介電膜真空蒸鍍）,，使得入射光可以反射一半透射一半,，從而把一束光分為反射的一束，和透射的一束,，形成兩束光,。

CNC車間機床加工，存在大量粉塵,，當(dāng)分光鏡上表面布上灰塵之后,，反射到產(chǎn)品表面的光束變多，導(dǎo)致反射到鏡頭的光束增多造成圖像變亮,。

防塵片：

遮擋來自空氣中的臟污粉塵,，避免粉塵掉落到分光鏡上引起發(fā)光不均勻情況；

1.反光鏡的工藝：

多層介電膜通過真空蒸鍍形成

介電膜：用濺射法在基片上沉積的以金屬鉭為基的介電薄膜材料,。

真空蒸鍍：

蒸鍍的物理過程包括：沉積材料蒸發(fā)或升華為氣態(tài)粒子→氣態(tài)粒子快速從蒸發(fā)源向基片表面輸送→氣態(tài)粒子附著在基片表面形核,、長大成固體薄膜→薄膜原子重構(gòu)或產(chǎn)生化學(xué)鍵合。將基片放入真空室內(nèi),，以電阻,、電子束、激光等方法加熱膜料,，使膜料蒸發(fā)或升華,，氣化為具有一定能量（0.1～0.3eV）的粒子（原子、分子或原子團）。氣態(tài)粒子以基本無碰撞的直線運動飛速傳送至基片,，到達基片表面的粒子一部分被反射,，另一部分吸附在基片上并發(fā)生表面擴散，沉積原子之間產(chǎn)生二維碰撞,，形成簇團,，有的可能在表面短時停留后又蒸發(fā)。粒子簇團不斷地與擴散粒子相碰撞,，或吸附單粒子,，或放出單粒子。此過程反復(fù)進行,，當(dāng)聚集的粒子數(shù)超過某一臨界值時就變?yōu)榉€(wěn)定的核,，再繼續(xù)吸附擴散粒子而逐步長大，*終通過相鄰穩(wěn)定核的接觸,、合并,，形成連續(xù)薄膜。