半導體用氮氣烤箱循環(huán)風道性能和加熱的結構設置有別于普通烘箱,，設備裝有氮氣裝置,，有進口氮氣流量計,，能更準確的控制氮氣的流量進入到箱體內(nèi)，并且配有快速插拔充氮氣接口,，方便充氮氣并控制氮氣流量，使每一分氮氣都能得到充分的使用,。防止其受潮氧化,，更好的保護產(chǎn)品。

半導體用氮氣烤箱箱體規(guī)格：

內(nèi)尺寸：450(長)×450(寬)×450(高)mm,；（雙箱式,單箱獨立控制）

外尺寸約：以實物為準,；

單箱內(nèi)分六層，底起50mm層,，以上平分,，配網(wǎng)板六個，可活動抽出,；

門上有玻璃視窗W250*H250mm,；

半導體用氮氣烤箱內(nèi)材質(zhì)為：304#不銹鋼工業(yè)板,厚5.0mm，加強處理,，抽真空不變形,；

外材質(zhì)為：冷軋鋼板,厚1.2mm,粉體烤漆處理；

保溫材質(zhì)為：耐高溫巖棉,，保溫效果好,；

密封材質(zhì)為：耐高溫硅膠條；

安裝活動腳輪及可調(diào)固定腳座,，可任意推動,；

箱體結構為連體式，上部分為產(chǎn)品箱,，下部分真空泵安裝處,右側控制面板,；

半導體用氮氣烤箱特點:

迅速脫氧：該箱內(nèi)膽采用不銹鋼制造，箱壁接縫全部采用氬弧焊焊接,，密封性能,，能快速脫氧；

氮氣功能：可充入氮氣,、氬氣等惰性氣體,，實現(xiàn)氣氛、無氧,、降溫之功能,；

高效率：穩(wěn)定和快速的升溫性能，有助于提高產(chǎn)品質(zhì)量和效率,；

半導體用氮氣烤箱保溫節(jié)能：箱體與工作室之間填充高密度纖維棉作保溫材料,，有效保溫節(jié)能；

密封性好：箱門與工作室外框設有耐高溫無塵密封條和壓緊裝置,有效地保證了箱體的密封性能,；

置物架：工作室內(nèi)設計可抽取的載物網(wǎng)板,；

美觀簡潔：設備外形美觀,，操作簡便，控溫靈敏準確,；

寬泛的溫度范圍選擇,。

半導體用氮氣烤箱控溫系統(tǒng)：

溫度控制為PID方式觸摸屏儀表(TEMI580)，單點式或程序式控溫,，可自動演算,，PV/SV同時顯示，點觸設定,；帶有記憶功能（如溫度,、時間）,記憶每次使用試驗過程溫度及時間.數(shù)保存長時間為6個月,帶有232電腦接口

計時器功能：儀表自帶（可設定小時、分鐘）,，溫到計時,，時間到停止加熱，同時報警提示,；

半導體用氮氣烤箱同時另外采用儀表顯示箱內(nèi)上,、中、下三個中心點溫度,，只顯示,，不保存記錄；

感溫線（PT100）型,；

輸出為3-32V,；

電流控制器為：固態(tài)繼電器SSR無接點；

升溫速率:100℃約15分鐘,，控制儀表到溫后,，需恒溫15-20分鐘，內(nèi)部溫度才能達到,；

半導體用氮氣烤箱采用三面加熱,，熱輻射對流方式，發(fā)熱管安裝于內(nèi)箱外壁左,、右,、底三面；

加熱元件為：不銹鋼高溫發(fā)熱管,；

溫度范圍：常溫+30至250℃之間,常用溫度分別為90度,、120度,、180度,；

控制精度±2.0℃；

半導體用氮氣烤箱顯示精度0.1℃,；

箱內(nèi)溫度偏差分布均勻度±5℃.(空箱測試,高層與低層偏差)

真空系統(tǒng)

本機采用高密度性的硅膠密封條,，進行門口處密封,；

真空度為數(shù)顯示，采用SMC壓力表顯示即時真空度,相對壓力顯示,；

半導體用氮氣烤箱機臺真空度范圍：0KPa至-100.0KPa，(真空度為：≤265Pa)；

真空控制方式：自動控制,，達到真空度停止抽真空,，低于下限時自動啟動，以此循環(huán)工作,，恒溫時間完成后,，停止工作；手動解壓充空氣或充氮氣,；

真空度在產(chǎn)品烘烤過程中的變化,，只顯示觀察，不保存數(shù)據(jù),；

半導體用氮氣烤箱配置4升直連式真空泵,，功率550W，電壓220V.

充氮氣裝置（可手動充空氣解壓）

調(diào)壓閥：控制氮氣壓力,，正常使用下氮氣壓力調(diào)為2公斤左右

流量計：控制氮氣進入箱內(nèi)的大小,，量程為2L/min-10Lmin；

氮氣管道進入到箱內(nèi)正后面,，外配2米長10mm氮氣軟管,；

氮氣需貴公司提供。

半導體用氮氣烤箱保護系統(tǒng)：

超溫保護系統(tǒng)：當溫度失控時,，超過超溫保護設定溫度時,，自動停止加熱供電，從而保護產(chǎn)品及機器的安全,；

電路保護系統(tǒng)：接地保護,、缺相保護、快速保險絲,。

半導體用氮氣烤箱機器電源：

電壓 380V 三相五線

電流 23A

單箱加熱功率 6KW

總功率 15KW

半導體用氮氣烤箱詳細說明：

使用電源：AC 380V 50HZ

使用溫度：室溫--250度

內(nèi)膽尺寸：深500*寬600*高750(mm)

半導體用氮氣烤箱外形尺寸：深750*寬1150*高1350(mm)

內(nèi)膽材料：不銹鋼板

外壁材料：A3冷軋鋼板

充氮裝置：氣體減壓閥,，惰性氣體流量控制，通入流出箱內(nèi)管道

半導體用氮氣烤箱箱內(nèi)分層：3層,，標配2個可抽出式載物隔板

控溫方式：PID智能數(shù)顯溫控,，按鍵操作，LED數(shù)字顯示,，設定溫度和實際溫度雙溫度顯示

控溫均勻：±3℃

加熱元件：電加熱管,，使用壽命長達4萬小時以上

半導體用氮氣烤箱加熱功率：4 KW

鼓風電機：耐高溫長軸電機配離心風輪，安裝在箱體左側

送風方式：箱內(nèi)兩側雙風道出風,，左側出風,，右側水平回風內(nèi)循環(huán)

定時裝置：  1分-99.99小時恒溫定時,，可預設烘烤時間，時間到自動切斷加熱并聲光報警

半導體用氮氣烤箱安全裝置：  漏電,，短路,，過載保護；鼓風電機過載缺相保護

出廠配件：標配不銹鋼網(wǎng)版2層

選裝配件：可增減層數(shù) 2.承重型擱板,；烘盤 3.程序控溫 4.固定滑輪 5.多通道溫度記錄儀6.計算機遠程監(jiān)控 7.彩屏觸摸控制