大氣中,，等離子焰流一離開噴嘴就從周圍吸入大量空氣。在100mm噴距時,，吸入空氣量可占等離子體的90%以上,。常壓等離子噴涂時，金屬粉末氧化嚴重。另外,，有些有毒材料(如鈹及氧化鈹)無法在大氣中噴涂,。為解決上述問題，提出了低壓等離子噴涂,。真空等離子噴涂又稱低壓等離子噴涂,，是在低于大氣壓的低真空的密閉空間里進行的等離子噴涂。下面和壹佰一起了解吧,。

　　受控環(huán)境的噴涂技術將我們對等離子噴涂的認識向前推進了一步,。在噴涂室內操作噴槍，使環(huán)境得到完全控制,。這樣生產出來的涂層的特性是不可能在標準大氣環(huán)境下生產出來的,。環(huán)境可以在近乎真空(低達50 mbar)和增高壓力(高達4 bar)范圍內變化。選擇在噴涂室內噴涂可防止涂層材料和/或基體的污染,，或是由于需要噴涂材料與加入的某種物質產生反應,。

　　可控氣氛等離子噴涂的原理即等離子噴槍置于密封艙室內，由機械手進行操作,。將艙室抽至真空狀態(tài)即為真空等離子噴涂(VPS),，艙室為低壓狀態(tài)時，成為低壓真空等離子噴涂(LPPS),。艙室的氣氛可以為惰性氣氛或其他保護性氣氛,。由于環(huán)境為低壓或氣氛可控，等離子焰流加長,，粒子加熱更充分，氧化減少,，涂層的質量得到明顯改善,，并且可以用于制備沉積金剛石膜、超導體氧化物涂層,。

　　這種工藝生產出的涂層有很多優(yōu)勢,。涂層致密性好，粘結性強,，不會被污染,，金屬涂層中沒有氧化物。在用無反應大氣裝填的噴涂室內噴涂的陶瓷等非金屬涂層純度很高,。并且,，諸如鎢等高熔點金屬涂層應用也很成功。這是因為等離子羽流剖面均勻,，“焦斑直徑”可以很大,。此外，沒有大氣冷卻涂層粒子意味著涂層凝固過程比較緩慢。大氣等離子涂層幾乎沒有夾層“薄片”,，涂層的晶體結構接近鑄件材料的晶體結構,。

　　在低真空的環(huán)境里，由于非轉移型等離子弧射流變粗拉長,，一直接觸到工件表面,，形成導電通道，因而可在其上疊加轉移弧,。利用轉移弧對工件表面進行濺蝕,，去掉表面氧化層和污染，并且工件可以加熱到較高溫度,，使得涂層在光滑的表面上就可結合,，并在界面上產生擴散，提高了結合強度,，涂層厚度亦可不受限制,。在密閉室進行噴涂，噪聲和粉塵對環(huán)境的污染問題也相應得到了解決,。

　　低真空環(huán)境下的噴涂與大氣等離子噴涂相比具有以下顯著特點：

　　1)等離子射流的速度和溫度都比大氣等離子噴涂明顯提高,，壓力愈低，射流速度和溫度就愈高,。

　　2)粉末在等離子射流高溫區(qū)域滯留的時間增加,，受熱更均勻，飛行速度更高,。

　　3)可大幅度提高基體表面預熱溫度;還可以用反向轉移弧對基體進行濺射清洗,，清除氧化物和污垢，使涂層和基體的結合狀況得到改善,。

　　4)粉末和基體表面完全避免了氧化,，能制備各種活性金屬材料涂層。

　　5)由于以上原因,，使得涂層結合強度大幅度提高,，氣孔率大幅度降低，涂層殘余應力減小,，涂層質量明顯改善,。

　　6)真空等離子噴涂設備復雜，價格昂貴,，推廣應用難度很大,。

　　以上就是壹佰分享的真空等離子噴涂，經過此文相信友友們對真空等離子噴涂技術也有了一定的了解,，希望可以幫助到大家,。想了解更多相關技術資訊,，歡迎持續(xù)關注。