曲面曝光顯影

曲面曝光顯影真正的精度和技術體現(xiàn)曝光顯影：3D件外觀裝飾重要工藝,，3D遮蔽可以移印,，貼合，噴砂曝光顯影廠家,，曲面角度小還是可以做貼合工藝,；

曝光顯影技術優(yōu)勢：解決曲面工件(包含面曲)印刷難題;圖形轉印技術單層,、多層套印精度高;霧化噴涂確保厚度均性，提高致密性,，降低油墨厚度;采用圖形轉印技術,，良率較高;-寸蓋板單制程產(chǎn)能優(yōu)勢明顯;較薄的油墨利于貼合，提高制程整體良率,。開始采用曝光與顯影的方式來定義組裝區(qū),，曝光后的工件是否顯影充分，關系到產(chǎn)品刻蝕時一致性和穩(wěn)定性.相比絲印移印曝光顯影的精度更高線條更細

    曝光后開始蝕刻,，蝕刻一種將材料使用化學反應或物理撞擊作用而移除的技術,。通常所指蝕刻也稱光化學蝕刻，指通過曝光制版,、顯影后,，將要蝕刻區(qū)域的保護膜去除，在蝕刻時接觸化學溶液,，達到溶解腐蝕的作用,，形成凹凸或者鏤空成型的效果