TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面體非晶碳)涂層，是一種無DLC（類金剛石）涂層,，其膜層可以達到85%以上的（金剛石）SP3鍵含量,，具有的硬度(>75 GPa)、極低的摩擦系數(shù)(< 0.1),、高彈性模量,、寬透光范圍,、良好的化學惰性等優(yōu)點,，其物理化學性質(zhì)和金剛石極其類似。

應用范圍：在消費電子,、高精密模具,、交通工具等領域具有優(yōu)勢。

目前現(xiàn)有的成熟技術制備的Ta-C涂層硬度基本穩(wěn)定在HV,，一般而言,，在涂層結(jié)合力達標的情況下，涂層的硬度和耐磨性能成正比，對于一些特殊情況下的使用,，現(xiàn)有成熟技術制備的Ta-C 涂層很難達到HV的超硬要求,。

而超硬類金剛石涂層工藝硬度可控制在4500~8000HV，大幅增加膜層硬度,。

超硬類金剛石涂層：

TAC(Tetrahedral Amphous Carbon,四面體非晶碳)涂層，是一種無DLC（類金剛石）涂層,，其膜層可以達到85%以上的（金剛石）SP3鍵含量,，具有高的硬度(>75 GPa)、極低的摩擦系數(shù)(< 0.1),、高彈性模量,、寬透光范圍、良好的化學惰性等優(yōu)點,，其物理化學性質(zhì)和金剛石極其類似,。

安徽純源鍍膜科技有限公司（簡稱純源鍍膜）,，是由新加坡歸國創(chuàng)業(yè)團隊于2014年創(chuàng)立的高科技公司，主要從事真空納米鍍膜設備的設計,、研發(fā),、加工制造、銷售,、售后服務和鍍膜生產(chǎn)服務。

公司目前擁有設計,、研發(fā),、工藝,、市場和生產(chǎn)等各方面的專業(yè)人才，在純離子鍍膜(Pure Ion Coating,，簡稱PIC)、化學氣相沉積（CVD）,、磁控濺射,、多弧離子鍍、離子束刻蝕清洗等真空鍍膜應用領域都擁有國內(nèi)外技術,。

膜層系列有Ta-C,、DLC、低溫化物膜 (TiN,、CrN等),、碳化物膜 (CrC等)和高致密金屬/合金膜等,。

注明：以上數(shù)據(jù)來源于安徽純源鍍膜科技有限公司-先進材料實驗室-檢測結(jié)果