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所在地: | 湖北 武漢 |
有效期至: | 長(zhǎng)期有效 |
發(fā)布時(shí)間: | 2023-12-20 05:25 |
最后更新: | 2023-12-20 05:25 |
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用途編輯 語(yǔ)音
1.用于各種集成電路的等離子刻蝕工藝,也用作激光 氣體,,用于低溫制冷劑,、溶劑、潤(rùn)滑劑,、絕緣材料,、紅外檢波管的冷卻劑。
2.是微電子工業(yè)中用量大的等離子蝕刻氣體,,四氟甲烷高純氣及四氟甲烷高純氣,、高純氧的混合氣,可廣泛應(yīng)用于硅,、二氧化硅,、氮化硅、磷硅玻璃及鎢等薄膜材料的蝕刻,,在電子器件表面清洗,、太陽(yáng)能電池生產(chǎn)、激光技術(shù),、低溫制冷,、泄漏檢驗(yàn)、印刷電路生產(chǎn)中的去污劑等方面也大量使用,。
3.用作低溫制冷劑及集成電路的等離子干法蝕刻技術(shù) 。